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第727章 光刻机进度(2/2)

得人眼花缭乱。

    “新松,你来看,这是光刻机核心系统的思维导图,”郭汝京开始介绍说道。

    “这是光源系统,对于极紫外(EUV)光刻机,需研发高功率激光器,以每秒数万次的频率轰击液态锡滴,产生13.5nm波长的极紫外光。

    并且需要对光源发出的光束进行整形、均匀化、滤波和能量控制,确保光束质量。”

    “光是这一项,就涉及高功率co?激光器、锡滴发生器、收集镜、复杂的光学透镜组等模块的制造。”

    “在这个子系统,我们尚且有三十多项待攻克的任务。”

    郭汝京一路点开,越往下任务越细致,自然任务也就越多。

    蒋新松看的眼花缭乱,不过作为工程设计,他也是看多了,只是很多子任务的方向不太熟悉,大致还是能理解。

    他指着那些绿色的部分,询问道,“这些,是已经攻克的课题?”

    “对的。”郭汝京微微点头说道,“因为前些日子采购部拿回来的资料,里面有不少相关的技术。”

    “另外,咱们初苗集团的科技中心那边,也有不少工程师提供了技术的支持,在光源发电这一块,咱们剩下要解决的难题并是很多。”

    “但后面的部分……”郭汝京打开后面几个子模块,面露难色。
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